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NONSEQUITUR 大束流離子源離子槍

簡要描述:NONSEQUITUR 大束流離子源離子槍ION GUNS: MODEL 1404
支持所有惰性氣體外加氮氣,可選氧氣功能,帶Thoria涂層燈絲

  • 產品型號:MODEL 1404
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2025-12-17
  • 訪  問  量:966

詳細介紹

品牌其他品牌貨號/
規格常規供貨周期一個月
主要用途真空表面化學實驗

圖片1.jpeg


NONSEQUITUR 大束流離子源離子槍ION GUNS: MODEL 1404


NONSEQUITUR大束流離子源離子槍Model 1404設計特點:


高亮度電子沖擊離子源

連續可變光束能量,最多3kV

束流0-10uA

支持所有惰性氣體外加氮氣,可選氧氣功能,帶Thoria涂層燈絲

所有材料采用超高真空和耐腐蝕材料

配備可用于可變蝕刻區域和光束準直的冷凝器透鏡

配備用于計算機控制的USB接口和圖形用戶界面

離子源(英文名稱:Ion source)是使中性原子或分子電離,并從中引出離子束流的裝置。它是各種類型的離子加速器、質譜儀、電磁同位素分離器、離子注入機、離子束刻蝕裝置、離子推進器以及受控聚變裝置中的中性束注入器等設備的部件。

氣體放電、電子束對氣體原子(或分子)的碰撞,帶電粒子束使工作物質濺射以及表面電離過程都能產生離子,并被引出成束。根據不同的使用條件和用途,已研制出多種類型的離子源。使用較廣泛的有弧放電離子源、PIG離子源、雙等離子體離子源和雙彭源這些源都是以氣體放電過程為基礎的,常被籠統地稱為弧源。高頻離子源則是由氣體中的高頻放電來產生離子的,也有廣泛的用途。新型重離子源的出現,使重離子的電荷態顯著提高,其中較成熟的有電子回旋共振離子源(ECR)和電子束離子源(EBIS)。負離子源性能較好的有轉荷型和濺射型兩種。在一定條件下,基于氣體放電過程的各種離子源,都能提供一定的負離子束流。

離子源是一門具有廣泛應用領域的學科,在許多基礎研究領域如原子物理、等離子化學、核物理等研究中,離子源都是十分重要的設備。




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